簡要描述:Layertec 優(yōu)質(zhì)基材腔衰蕩時間光譜儀或EUV鏡的特殊激光應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)基材的特點是:Ø精確的幾何形狀:有關(guān)直徑,厚度,折痕或曲率半徑等幾何特性的公差,請咨詢客服Ø表面粗糙度Ø表面形狀公差Ø拋光表面上的缺陷數(shù)量
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品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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組件類別 | 光學元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Layertec 優(yōu)質(zhì)基材
腔衰蕩時間光譜儀或EUV鏡的特殊激光應(yīng)用的優(yōu)質(zhì)基材的特點是:
Ø精確的幾何形狀:有關(guān)直徑,厚度,折痕或曲率半徑等幾何特性的公差,請咨詢客服
Ø表面粗糙度
Ø表面形狀公差
Ø拋光表面上的缺陷數(shù)量
LAYERTEC針對所有這些參數(shù)優(yōu)化了拋光程序。 在下文中,我們就會展示使用熔融二氧化硅和氟化鈣可獲得的出色結(jié)果。
規(guī)格
表面粗糙度
ØRMS-熔融石英和氟化鈣的平面基板的粗糙度<1.5Å
Ø在光滑彎曲的球形熔融石英表面上得到相似的結(jié)果(取決于直徑和曲率半徑的比率)
Ø即使在紫外線范圍內(nèi),基材的散射損耗也非常低:
ØTS = 2 x 10 – 5 at 248nm (total backscattering)
ØTS = 5.6 x 10 – 4 (total backscattering) and 7.5 x 10 – 4 (forward scattering) at 193 nm
Ø即使在DUV / VUV波長范圍內(nèi)也適用于低損耗光學元件
高質(zhì)量拋光熔融石英基板的功率譜密度(PSD)曲線(在FhG IOF Jena上執(zhí)行的測量)
高質(zhì)量拋光CaF2基板(在FhG IOF Jena執(zhí)行)的3D AFM測量,均方根粗糙度0.12nm
Layertec 優(yōu)質(zhì)基材
表面形狀公差
Fused silica | Plane | λ/20 (633nm) for diameters of 6.35mm … 101.6 mm |
Spherical | λ/10 (633nm) for diameters of 6.35mm … 38.1mm | |
CaF2 | Plane | λ/10 (633nm) for diameters of 12.7mm … 25.4 mm |
λ/4 (633nm) for diameters of 38.1mm … 50.8 mm | ||
Spherical | λ/4 (633nm) for diameters of 12.7mm ... 50.8mm |
表面質(zhì)量
Material | ISO 10110 (∅25mm) | Approximately equivalent to MIL-O-13830 |
Fused Silica | 5/1x 0.010 L1x 0.0005 | Scratch - Dig 5 - 1 |
CaF2 | 5/1x 0.016 L1x 0.0010 | Scratch - Dig 10 - 2 |
如何選基材
基材的價格和質(zhì)量取決于材料,形狀,尺寸,公差和拋光質(zhì)量。在此站點上,我們將提供有關(guān)上述每個問題的更多信息。但是請注意:所有這些解釋都非常簡化。有關(guān)詳細規(guī)范,請閱讀相關(guān)標準的全文。我們也很高興通過電話討論您的詳細問題。
材料
第一個決定是基板的材料。對于高傳輸?shù)乃胁ㄩL,它都應(yīng)無吸收。如果沒有發(fā)生傳輸,則可以使用低成本的材料,例如適用于金屬鏡的Borofloat®(SCHOTT AG)。關(guān)于表面形狀公差,低的熱膨脹是有利的。
形狀
必須分別為兩側(cè)定形狀。基本上,平面,凸面和凹面的所有組合都是可能的。特殊角色扮演著角色??梢栽诟鞣N表面(平面以及凸面或凹面)上應(yīng)用楔形物(例如30 arcmin)。對于彎曲的基板,半徑符號有不同的約定。有時,“ +”表示凸形,“-”表示凹形。其他用戶將“ +”和“-”稱為光傳播。在這種情況下,“ +”表示“沿傳播方向的曲率”,“-”表示“沿傳播方向的曲率”。為避免混淆,請分別在單詞中或在首字母縮寫CC或CX上定凹形或凸形。
尺寸
主要決定是邊緣長度或直徑。
除非另有說明,否則厚度描述是指基板的最大厚度,即平凸基板的中心厚度和平凹基板的邊緣厚度。因此,在較厚的一側(cè)測量了楔形板。
為了獲得良好的形狀公差,應(yīng)該注意直徑和厚度的比率。根據(jù)經(jīng)驗,厚度應(yīng)為直徑的五分之一。當然,其他比率也是可能的,但是生產(chǎn)支出增加了。
規(guī)范不同類型的基板厚度的慣例(示意圖)
公差范圍
除尺寸和材料外,公差對價格重要。當然,光學元件必須安裝在安裝座中,以使直徑不應(yīng)大于規(guī)定的直徑。最常見的規(guī)格是– 0.1mm。 通常,厚度在兩個方向上都是自由的。LAYERTEC通常定其公差為±0.1mm。關(guān)于楔形,并行性和對中的規(guī)范存在很多困惑。請注意,楔形和平行度描述了光學表面之間的角度,而居中描述了光學表面和側(cè)面之間的角度(見圖2)。
圖2關(guān)于楔形和定心的各種平面基板(示意圖)
LAYERTEC標準基材的平行度優(yōu)于5arcmin。 特制的并行可能具有低至10arcsec的并行度。 標準楔形基板的楔形度為0.5°或1°。取決于基板尺寸,較大的楔角是可能的。通常,與側(cè)面成90°角的精度為20arcmin。定心是附加的光學處理,可將這種精度提高到幾弧分。
使用相同的術(shù)語,可以描述彎曲的基材。鏡子和鏡片之間應(yīng)該有區(qū)別。鏡子基板的側(cè)面是平行的。然而,光軸的方向可以相對于側(cè)面傾斜。居中后,側(cè)面平行于光軸。這樣,鏡面基板就變成了透鏡。
表面形狀公差
表面形狀公差通常由干涉儀測量,并以λ為參考值,λ是參考波長。無需進一步說明,參考波長為λ= 546nm。為避免混淆,必須清楚地區(qū)分平坦度,功率和不規(guī)則度。下面,將解釋平面的平坦度和不規(guī)則度。
圖3區(qū)分平面度,功率和不規(guī)則性的示意圖。第一基板的平坦度為λ/ 10。第二基板具有λ/ 4的冪以及λ/ 10的不規(guī)則度。第三基板在每個表面上具有λ/ 4的不規(guī)則性,但是透射波前的變形僅為λ/ 10。
一般而言,每個實際表面或多或少都是彎曲的。想象一下,真實表面的“峰”和“谷”被平行平面覆蓋(見圖3)。這些平面之間的距離稱為平坦度。這種平坦性包括兩個方面。第一個貢獻是表面的球形彎曲,這可以用兩個適合的“峰”和“谷”擬合球來描述。相對于理想平面的該曲率的弧矢表示為冪。這種球形彎曲不會影響反射光束的質(zhì)量。它只是導致有限的焦距。第二個貢獻是最佳擬合球體的偏差,稱為不規(guī)則性。這是光束質(zhì)量重要的值。
ISO 10110標準為定表面形狀公差提供了足夠的機會。與測量結(jié)果具有最佳的可比性,所有值均以干涉條紋的數(shù)量給出。應(yīng)將其讀取為1條紋=λ/ 2。在圖紙中,將表面形狀公差分配為第三項:3 /功率(不規(guī)則性)。
示例:可以將規(guī)則的(λ/ 10)稍微彎曲(λ/ 4)的光學器件定為:3 / 0.5(0.2)。
僅將光學器件用于傳輸(例如激光窗口),功率和不規(guī)則性都無關(guān)緊要。如果光學元件在整個自由孔徑上具有相同的厚度,則透射光束不會受到影響。與平坦度相似的方式定義了與該相等性的偏差。它也以參考波長的一部分進行測量,稱為“透射波陣面”。例如,圖3中的窗口的平坦度為λ/ 4,但透射波前為λ/ 10。”
涂層應(yīng)力
通常,薄的基材無法承受涂層應(yīng)力。涂層將導致球形變形。這意味著發(fā)生有限的矢狀面或力量。對于圓形基板,不規(guī)則性不受此問題影響。認真對待上述值,平坦度變差。然而,光束的質(zhì)量不受影響。
瑕疵
MIL-O -13830和ISO10110是描述光學元件的不同標準。這通常會導致模糊不清。 本上,應(yīng)該區(qū)分劃痕和凹痕。MIL-O-13830中的劃痕和挖掘深度數(shù)字表示最大的劃痕寬度(以十分之一微米為單位)和最大挖掘直徑(以百分之一毫米為單位)。最大尺寸挖掘可以是直徑的每20mm一次。根據(jù)ISO10110,缺陷定為項目編號5。等級編號表示二次區(qū)域的邊長(以毫米為單位),它等于總?cè)毕輩^(qū)域。因此5 / 1x0.025表示表面缺陷面積為0.000625 mm2。此外,前導L表示任何長度的刮擦。寬度為4微米的長刮擦將定為L 1 x 0.004。
標準質(zhì)量基材
LAYERTEC的精密光學設(shè)備可生產(chǎn)平面和球面彎曲的鏡面基板,熔融石英的透鏡和棱鏡,BK7和SF10等光學玻璃以及某些晶體材料,例如 氟化鈣。在以下內(nèi)容中,您可以找到有關(guān)我們標準基板規(guī)格的信息。請不要猶豫,與我們聯(lián)系以獲取其他尺寸,形狀,半徑和材料或特殊組件,例如棱鏡,標準具或彎月形透鏡。
規(guī)格
材料
熔融石英:Corning7980®或Lithosil®Q2(SCHOTT AG)
用于高功率應(yīng)用的熔融石英:Suprasil®300 / 3001/3002(Heraeus)
紫外熔融石英(準分子級)Lithosil®Q1 E -193和E-248(SCHOTT AG)紅外熔融石英:Infrasil302®(Heraeus)
BK7®:光學玻璃(SCHOTT AG)
CaF2:從紫外線到紅外都是透明的,可根據(jù)要求提供準分子級質(zhì)量的價格
藍寶石:隨機取向,單晶,可根據(jù)要求提供特殊取向
YAG:未摻雜,隨機取向,單晶
∅: 直徑 [mm]
t: 厚度 [mm]
外型尺寸
Ø熔融石英,BK7:直徑6.35毫米…508毫米(¼英寸…20英寸)
Ø氟化鈣,YAG,藍寶石:直徑6.35毫米至50.8毫米(¼英寸至2英寸)
Ø可根據(jù)要求提供矩形基板和其他直徑
平面基板,平行和楔形
Ø標準平面基板:楔形<5arcmin
Ø標準平行:楔形<1arcmin或楔形<10arcsec
Ø標準楔子:楔形= 30arcmin或楔形= 1deg
平凹和平凸基材
Ø標準半徑:25、30、38、50、75、100、150、200、250、300、400、500、600、750、1000、2000、3000、4000、5000mm
Ø楔形:CaF2:楔形<15min,所有其他材料:楔形<5min
公差范圍
Ø直徑:+0毫米,-0.1毫米
Ø厚度:±0.1mm
•∅:直徑[mm]
•te:邊緣厚度[mm]
•tc:中心厚度[mm]
表面形狀公差
Fused silica | λ/10 (633nm) | |
BK7 | λ/10 (633nm) | |
CaF2 | ∅ 6.35mm … 25.4mm | λ/10 (633nm), |
∅ 38.1 … 50.8mm | λ/4 (633nm) | |
Sapphire | 5/3 x 0.025 L20 x 0.0025 | |
YAG | 5/1 x 0.025 L2 x 0.004 | |
YAG | 5/1 x 0.025 L2 x 0.004 |
表面質(zhì)量
Material | ISO 10110 (∅25mm) | Approximately equivalent to MIL-O-13830 |
Fused Silica | 5/1 x 0.025 L1x 0.001 | Scratch - Dig 10 - 3 |
BK7 | 5/2 x 0.040 L1x 0.001 | Scratch - Dig 10 - 5 |
CaF2 | 5/3 x 0.025 L1x 0.0025 | Scratch - Dig 20 - 3 |
Sapphire | 5/3 x 0.025 L20 x 0.0025 | Scratch - Dig 40 - 3 |
YAG | 5/1 x 0.025 L2 x 0.004 | Scratch - Dig 40 - 3 |
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